NIP+FAB Glycolic Fix Extreme Bubble Mask maska oczyszczająca z kwasem glikolowym 23 g

Daj skórze zastrzyk energii z Glycolic Fix Extreme Bubble Mask marki NIP+FAB, oczyszczającą maseczką do twarzy, która sprawia, że cera jest przyjemnie miękka w dotyku. Maska zawiera 2-procentowy kwas glikolowy, który wygładza powierzchnię skóry, a innowacyjna receptura dotleniająca pomaga usunąć nadmiar sebum i zanieczyszczeń. Po nałożeniu maski unoszą się z niej pęcherzyki tlenu, zabierając ze sobą zanieczyszczenia i martwe komórki naskórka i zapewniając Ci świeżą, oczyszczoną cerę. Zabieg zawiera również magiczny składnik, jakim jest węgiel drzewny, który dodatkowo złuszcza naskórek i dodaje blasku cerze.

Przed użyciem potrzyj saszetkę, aby dokładnie wymieszać jej składniki. Wyjmij maskę i rozłóż ją na suchej twarzy. Pozostaw na 10–15 minut lub do chwili pojawienia się dużej liczby pęcherzyków tlenowych, a następnie zdejmij maskę. Wmasuj pozostałe pęcherzyki w twarz i spłucz skórę letnią wodą. Wyrzuć maskę po użyciu. Przed użyciem dokładnie umyj ręce. Nie stosować w przypadku egzemy oraz na skaleczoną lub podrażnioną skórę.

Aqua (Water), Glycerin, Cocamidopropyl Betaine, Tromethamine, Glycolic Acid, Dipropylene Glycol, Methyl Perfluorobutyl Ether, Methyl Perfluoroisobutyl Ether, Disiloxane, Hydroxyethylcellulose, Decyl Glucoside, Allantoin, Phenoxyethanol, Chlorphenesin, Hydroxyacetophenone, Caprylyl Glycol, 1,2-Hexanediol, Parfum (Fragrance), Propanediol, Disodium EDTA, Sodium Hyaluronate, Illicium Verum (Anise) Fruit Extract, Retinyl Palmitate, Thiamine HCL, Riboflavin, Niacin, Carnitine HCL, Pantothenic Acid, Biotin, Folic Acid, Ascorbic Acid, Tocopherol, Linalool.

For the latest information, it is recommended to review the ingredient list printed on the packaging of the product prior to usage or consumption.